製品とサービス 製品情報 厚膜熱酸化膜加工 当社の厚膜熱酸化膜技術は光通信部材に利用されています。 シリコンの限界を超えたシリコン。それが私たちの厚膜形成技術です。 詳しくはこちら SOIウェーハ 当社のSOIウェーハは、自社独自の厚膜熱酸化膜技術を基に製作されております。 こちらMEMS分野において大変有効です。 詳しくはこちら 基板販売 半導体用および光通信用、その他各種製品用途としてご提供いたします。 サイズや製法、面方位や厚みなどお客様のニーズに合わせた製品をご提供できます。 詳しくはこちら SiCウェーハ販売 SiCウェーハは絶縁破壊電界強度がSiの10倍、熱伝導度が3倍と優れておりパワーデバイスやLED用途といして幅広く使用されています。 詳しくはこちら 最新情報 2025.01.01 代表取締役社長が交代いたしました。 2024.12.10 「SEMICON Japan 2024」(東京ビッグサイト/12.11-13/ブースNo.7608)に出展いたします 2024.07.09 「」当社が「Semiconductor Review Top10(シリコンウェーハ部門)」に選定されました。 採用情報 募集情報はこちら
製品情報 厚膜熱酸化膜加工 当社の厚膜熱酸化膜技術は光通信部材に利用されています。 シリコンの限界を超えたシリコン。それが私たちの厚膜形成技術です。 詳しくはこちら SOIウェーハ 当社のSOIウェーハは、自社独自の厚膜熱酸化膜技術を基に製作されております。 こちらMEMS分野において大変有効です。 詳しくはこちら 基板販売 半導体用および光通信用、その他各種製品用途としてご提供いたします。 サイズや製法、面方位や厚みなどお客様のニーズに合わせた製品をご提供できます。 詳しくはこちら SiCウェーハ販売 SiCウェーハは絶縁破壊電界強度がSiの10倍、熱伝導度が3倍と優れておりパワーデバイスやLED用途といして幅広く使用されています。 詳しくはこちら
最新情報 2025.01.01 代表取締役社長が交代いたしました。 2024.12.10 「SEMICON Japan 2024」(東京ビッグサイト/12.11-13/ブースNo.7608)に出展いたします 2024.07.09 「」当社が「Semiconductor Review Top10(シリコンウェーハ部門)」に選定されました。